金盤電極作為一種在電化學領域廣泛應用的電極，其特別的核心構造和原理對于實現高效、穩定的電化學過程起著關鍵作用。
從核心構造來看，其主要由基底、金層和支撐結構組成。基底通常是硅等具有一定機械強度和導電性能的材料，為電極提供穩固的支撐。金層是金盤電極的關鍵部分，通常通過物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)等高精度技術，在基底表面均勻地沉積形成。金層的純度、厚度和均勻性對電極的性能有著重要影響。例如，金純度高可以減少雜質的干擾，保證電化學反應的特異性；合適的厚度能在滿足導電需求的同時，避免過厚導致的反應效率下降。支撐結構則起到連接電極與外部電路的作用，使電流能夠順利傳輸。
其原理主要基于電化學中的基本概念。當
金盤電極作為工作電極接入電化學池時，溶液中的物質在電極表面發生電化學反應。金層由于其良好的化學穩定性和導電性，能夠有效地傳輸電子。在陰極反應中，金盤電極接受溶液中的正離子，并提供電子使離子獲得電子變成原子或分子；在陽極反應中，電極上的物質失去電子，電子通過支持結構流出電極。金盤電極的高表面積與體積較高，使得單位體積內的反應位點增多，從而大大提高了電極的反應效率。
此外，其還可以與其他電極組合構成不同的電極體系，如三電極體系。在這種體系中，它作為工作電極與參比電極和輔助電極協同工作，實現對電化學過程更精確的控制和研究。
金盤電極特別的構造和原理使其在電化學分析、電催化等領域具有不可替代的應用價值，為推動相關領域的發展發揮著重要作用。
